روشی نوین در تسریع بهبود زخم‌ها

پوست قابلیت بهبودبخشی خود را دارد، اما در برخی مواقع بهبودی به کندی و یا حتی به ندرت انجام می‌گیرد و ممکن است درد مزمن، عفونت و یا به جا ماندن اثر زخم را همراه داشته باشد.

به گزارش سرویس ترجمه ایمنا، به تازگی محققان پانسمان‌هایی ساخته اند که با تولید میدان الکتریکی در اطراف زخم به طور چشمگیری زمان بهبودی زخم های پوستی مزمن را کاهش می‌دهد. این زخم‌ها شامل زخم های دیابتی پا ، زخم های وریدی و زخم های جراحی بهبود نیافتنی می‌شود.

تا کنون متخصصان راه های بسیاری را برای علاج این نوع زخم ها امتحان کرده اند که شامل پانسمان کردن، بستن زخم، در معرض اکسیژن قرار دادن و از بین بردن عامل رشد زخم ها می‌شود که اغلب اوقات تاثیر درمانی کمی داشته‌اند.

 در سال ۱۹۶۰ میلادی دانشمندان به این موضوع پی بردند که نیروی الکتریکی به التیام زخم های پوستی کمک می‌کند. اما دستگاه تولید میدان الکتریکی معمولا بزرگ است و نیاز به بستری شدن بیمار دارد. ویبو کانگ و زادونگ وانگ و همکارانشان در صدد تولید پانسمانی برآمدند که بتواند از حرکات پوست میدان الکتریکی ایجاد کند.

 به منظور تأمین نیروی پانسمان الکتریکی، آنها نانوژنراتوری (دستگاهی که از مقدار کم انرژی مکانیکی یا گرمایی، انرژی الکتریکی تولید می‌کند) را با روی هم قرار دادن ورقه های پلی تترا فلورو اتیلن (PTFE)، ورقه های مس و ورقه های پلی اتیلن ترفتالات (PET) طراحی کردند.

 این نانوژنراتور حرکات پوست که ناشی از فعالیت های عادی بدن یا حتی نفس کشیدن است را به پالس های الکتریکی تبدیل می‌کند. این جریان الکتریکی به دو سیم متصل شده به محل زخم فرستاده می‌شود تا یک میدان الکتریکی ضعیف در آن محل بوجود آید.

طی این مطالعه، محققان نانوژنراتور را روی زخم های پشت موش صحرایی قرار دادند تا تاثیر جریان الکتریکی بر زخم‌ها را دریابند. زخم های بسته شده با پانسمان های الکتریکی در مدت سه روز و زخم های بسته شده با پانسمان‌های معمولی پس از دوازده روز بهبود یافتند. پژوهشگران دلیل التیام سریع تر زخم ها را جابه‌جایی، تکثیر و تفکیک فیبروبلاست ها (فراوان ترین و اصلی ترین سلول در لایه میانی پوست) توسط میدان الکتریکی می‌دانند.

پانسمان الکتریکی ابداعی بر نمونه حیوانی (موش) امتحان شده است و برای تایید نتایج نهایی به تحقیقات بیشتری بر نمونه های انسانی نیاز است.

کد خبر 362342

برچسب‌ها

نظر شما

شما در حال پاسخ به نظر «» هستید.